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標(biāo)題：光學(xué)量測表面粗糙度的原理簡介-測量金相顯微鏡

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光學(xué)量測表面粗糙度的原理簡介-測量金相顯微鏡

不管那一種量測方法，其檢測原理大致相同，利用光照射到待測物表面，所得到資訊以感測器或電荷耦合器來

擷取光反射或散射后的情形，對表面粗糙度要求高的待測物來說，光學(xué)量測的確是目前檢測系統(tǒng)的趨勢。

為了解決此問題，本研究發(fā)展一套低價(jià)位與高精度之低溫多晶矽膜表面粗糙度光學(xué)檢測系統(tǒng)，

藉由檢測光源照射準(zhǔn)分子激光能量退火后之試片，以及根據(jù)所量測之光強(qiáng)，可以于準(zhǔn)分子激光退火矽膜制程后，

快速得到低溫多晶矽膜之表面粗糙度值。根據(jù)蒐集文獻(xiàn)，使用光散射方法量測物質(zhì)表面粗糙度值已經(jīng)有諸多

成功案例，主要的原因?yàn)楣馍⑸浞椒ň哂泻唵闻c良好可靠度。

發(fā)展出一套不同厚度之低溫多晶矽膜表面粗糙度光學(xué)檢測系統(tǒng)，本系統(tǒng)的開發(fā)成本低廉，可運(yùn)用于半導(dǎo)體薄膜材料，

制程線上即時(shí)解析表面型貌。

出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科

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