標題：顯微鏡物臺平面上所成的像-測量型光學儀器常識
信息分類:站內(nèi)新聞
作者:yiyi發(fā)布
時間:2014-5-5 15:42:32
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正文:
照明場和測量場的控制:照明光闌(視場光闌)在顯微鏡物臺平面上所成的像稱為照明場;
測量光闌在顯微鏡物臺平面上所成的像為測量場(光度場)。照明光闌和測量光闌的
面積、位置都是可以調(diào)節(jié)的，因此照明場和測量場都是可以控制的。照明場用于
提供樣品照明，
而測量場用于限定被測樣品區(qū)，就是說，只有這個樣品區(qū)的光線能被光電倍
增管所檢測。雙波法、雙區(qū)法和掃描法對照明場和測里場的大小有不同的要
求，詳見各種方法的測量步驟;但有一些共同的原則應掌握，照明場太大時
，由于周圍光經(jīng)過反射或散射進人測量區(qū)，將引起較高的透光值;照明場太
小，則照明場形成的衍射條紋將會影響測呈值，
一般照明場為測量場的2倍左右。測量場的大小根據(jù)不同的測量方法選擇。
測量場的位置應調(diào)在照明場的中央。光電倍增管光陰極的不同部位靈敏度不
同，所以在測量過程中應保持照明場、測量場和樣品之間相對位置的一致。
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
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