標(biāo)題：金相分析-鍍層對(duì)于0.2-2μm范圍必須是理想的吸收體
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作者:yiyi發(fā)布
時(shí)間:2015-5-3 15:49:06
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正文:
鍍層對(duì)于0.2-2μm范圍必須是理想的吸收體
光學(xué)復(fù)合材料在工程上的最重要的用途無疑是用作太陽能集
熱管的選擇吸收鍍層.太陽能的大部分能量是在0.1-2μm光譜
范圍內(nèi)。選擇吸收鍍層對(duì)于0.2-2μm范圍必須是理想的吸收體，
而對(duì)于波長(zhǎng)大于3μm是理想的反射體。黑鉻和黑鎳接近于滿足這
一要求。但黑鎳的抗蝕性差，而黑鉻的抗蝕性良好，因而后者廣泛
用作選擇吸收鍍層。
盡管電解染黑的鋁曾經(jīng)研究過，擬用作太陽能選擇吸收鍍層，
但由于其具有高發(fā)射率而未能獲得實(shí)際應(yīng)用。電解染色鍍層已經(jīng)
廣泛用于彩色裝飾。
黑鎳和黑鉻已經(jīng)用在光學(xué)儀器零件上和某些印刷機(jī)械部件上
鋁的光學(xué)復(fù)合鍍層是用另一種稱為鋁電解染色的工藝制備。
這種工藝是在硫酸中陽極氧化，然后在磷酸中陽極氧化，最后在硫
酸鎳或硫酸亞錫或任何其他適當(dāng)金屬鹽溶液中，以陽極氧化的鋁
作為電極之一進(jìn)行直流電解。根據(jù)電壓、磷酸陽極氧化的持續(xù)時(shí)間
和直流電解時(shí)間，鋁可染上色澤。文獻(xiàn)中報(bào)道的各種工藝基本上都
是運(yùn)用上述工序，其差別在于所使用的電解液濃度和操作條件。
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
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