標題：電、光、磁學金屬制造結構顯微分析圖顯微鏡廠商
信息分類:站內(nèi)新聞
作者:yiyi發(fā)布
時間:2016-1-5 16:11:21
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正文:
即使高純材料也含有缺陷
實際材料，甚至用于研究工作的看來很完善的高純晶體， 其原
子結構往往與理想摸型也有差距，人們把這些偏離理想完善結構現(xiàn)
象通稱為實際材料的真實結構或具有缺陷的材料。材料的所有力學
、電、光、磁學和其它性能大多深受缺陷結構的影響，甚至取決于
其缺陷結構。
可根據(jù)與理想晶體結構偏差的程度，區(qū)分不同類型的實際結構
或缺陷結構，當個別點體上的原子未處在規(guī)定的位置上或為雜質原
子所取代時，即出現(xiàn)點缺陷，也稱為零維缺陷。點陣空位或中間點
陣位置上的質點屬于這種最簡單的點陣缺陷類型。著名學者弗倫克
耳和肖特基指出，與理想晶體點陣的這些偏差不足為奇，它們是由
干點陣上原子的不規(guī)則的熱運動的結果。在較高溫度下，總有一些
原子獲得足夠的動能，使之離開在點陣中的正常位置，同時留下的
空位，即空著的位置。
質點或是在表面上重新回到正常位置上，或是進人正常點陣位
置之間。后一種情況是可能出現(xiàn)的，因為在每一點陣中由于相鄰質
點的輕微變形均可能產(chǎn)生足夠的空間，以便將不太大的原子或離子
安置在點陣位置之間，即使在低溫下，這些點缺陷也不會消失，因
為在低溫下質點的運動大大受阻，使其不能回到正常位置。
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
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北京地區(qū)金相顯微鏡專業(yè)的供應商
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