標(biāo)題：樹脂材料樣品的納米印光刻電子束光刻技術(shù)的應(yīng)用
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作者:yiyi發(fā)布
時(shí)間:2016-9-1 14:30:17
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正文:
樹脂材料樣品的納米印光刻電子束光刻技術(shù)的應(yīng)用
壓模是近年來可以延伸到毫米尺寸的老方法之一。熱壓�？梢杂脕�
生產(chǎn)毫米甚至納米特征和結(jié)構(gòu)。大約10pm寬和深的結(jié)構(gòu)模型能夠被壓模
成PMMA。目前，一種更改過的晶片結(jié)合系統(tǒng)被用于壓模結(jié)構(gòu)，相當(dāng)于40
0nm穿過一個(gè)1℃m直徑的晶片。
有一種壓模，叫做納米印光刻(NIL)，包括把一個(gè)模子壓在涂有光
刻膠的襯底表面。這里，模型通過機(jī)械反應(yīng)而不是化學(xué)反應(yīng)被轉(zhuǎn)換成保
護(hù)層，即普通的PMMA。接著是光刻膠打開一個(gè)小小的區(qū)域到襯底，并允
許在襯底表面淀積或者蝕刻——光刻膠的傳統(tǒng)用法。NIL的模型可以由
許多普通的平版處理過程準(zhǔn)備好。例如，電子束光刻已經(jīng)被用來在40 n
m的樹脂上制作10 nm直徑的柱子，然后在PMMA中壓印。
一種稱為分步快速鏤刻技術(shù)，是使用光化學(xué)工藝，把晶片表面的一
層液體固化。這種技術(shù)避免了高溫和較高的壓力。晶片首先被涂上固體
有機(jī)材料的轉(zhuǎn)換層，然后將玻璃模板和期望的圖案置于有涂層的晶片附
近。模板可以利用好多方法來加工。一種低粘性的液體(光聚合，有機(jī)
硅，蝕刻保護(hù)材料)被分散在晶片的模板和轉(zhuǎn)換層之間，然后這些層被
粘在一起。通過紫外線曝光之后固化蝕刻保護(hù)層，并使它與轉(zhuǎn)換層聯(lián)系
在一起，然后去除模板。等離子蝕刻把圖形從現(xiàn)在的固體蝕刻保護(hù)層更
換到了轉(zhuǎn)換層，然后去掉蝕刻保護(hù)層。這就可以進(jìn)一步處理晶片表面的
轉(zhuǎn)換層模型�？焖夔U刻技術(shù)已經(jīng)生產(chǎn)出了60nm部件。
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
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