雙束型聚焦離子束儀器設(shè)備管理辦法?
信息分類:金相文章
作者:yiyi發(fā)布
時(shí)間:2012-1-4 2:02:32
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儀器設(shè)備管理辦法
一、儀器名稱
中文：雙束型聚焦離子束
英文：Dual-Beam Focused Ion Beam; DB-FIB
二、儀器設(shè)備廠牌及型號
FEI Quanta 3D FEG
三、規(guī)格
1. 場發(fā)射式電子束使用 Schottky emitter，加速電壓為 0.2~30KV，可分別于高真空、低真空與
環(huán)境式真空下操作。高真空模式之解析度可達(dá) 1.2nm at 30 kV。
2. 聚焦離子束使用 Ga 液體金屬離子源，加速電壓為 2~30KV，離子束電流 2pA~65nA，解析可
達(dá) 5nm。
3. GIS 系統(tǒng)，目前提供 Pt 沉積。附件為 TEM 試片擷取系統(tǒng)。
四、服務(wù)項(xiàng)目
1. 各式樣品之定點(diǎn)縱剖面切割與微結(jié)構(gòu)觀察。
2. TEM 樣品製作。
3. 光罩與元件之線路修補(bǔ)。
4. 特殊圖桉、陣列之製作。
一、儀器名稱
中文：雙束型聚焦離子束
英文：Dual-Beam Focused Ion Beam; DB-FIB
二、儀器設(shè)備廠牌及型號
FEI Quanta 3D FEG
三、規(guī)格
1. 場發(fā)射式電子束使用 Schottky emitter，加速電壓為 0.2~30KV，可分別于高真空、低真空與
環(huán)境式真空下操作。高真空模式之解析度可達(dá) 1.2nm at 30 kV。
2. 聚焦離子束使用 Ga 液體金屬離子源，加速電壓為 2~30KV，離子束電流 2pA~65nA，解析可
達(dá) 5nm。
3. GIS 系統(tǒng)，目前提供 Pt 沉積。附件為 TEM 試片擷取系統(tǒng)。
四、服務(wù)項(xiàng)目
1. 各式樣品之定點(diǎn)縱剖面切割與微結(jié)構(gòu)觀察。
2. TEM 樣品製作。
3. 光罩與元件之線路修補(bǔ)。
4. 特殊圖桉、陣列之製作。
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